Henan Staurk Machinery CO.,LTD info@staurkmac.com 86--13838395283
Henan Staurk Machinery CO.,LTD 企業紹介
製品
ホーム > 製品 > 鉱物磨き設備 > アルミナ釉薬汚染のないボールミル高純度粉砕装置

アルミナ釉薬汚染のないボールミル高純度粉砕装置

製品詳細

起源の場所: 中国

ブランド名: Staurk

証明: CE ISO

モデル番号: 0.2T~60T/バッチ

支払及び船積みの言葉

最小注文数量: 1

価格: 2000USD-160000USD

パッケージの詳細: コンテナまたはばら積み貨物船またはフラットラック

受渡し時間: 30~60日

支払条件: T/T、L/C、D/A、D/P、ウェスタンユニオン

供給の能力: 30セット

お問い合わせ
今雑談しなさい
製品詳細
ハイライト:
磨き媒体:
セラミックボール
モーター電圧::
380v 50Hz その他
はさみ金:
セラミック
モーターブランド:
中国の有名なブランド
OEM:
許容可能 (購入者が図面を提供)
Years of Experience:
20年以上
起源:
中国製
販売前のサービス:
一般的な図面が利用可能
品質検査:
SGS、TUVなどのサードパーティによって受け入れ可能
磨き媒体:
セラミックボール
モーター電圧::
380v 50Hz その他
はさみ金:
セラミック
モーターブランド:
中国の有名なブランド
OEM:
許容可能 (購入者が図面を提供)
Years of Experience:
20年以上
起源:
中国製
販売前のサービス:
一般的な図面が利用可能
品質検査:
SGS、TUVなどのサードパーティによって受け入れ可能
製品の説明

アルミナグラインダー汚染フリーボールミル高純度粉砕装置


1.製品紹介


アルミナグラインダー汚染フリーボールミル高純度粉砕装置は、粉砕プロセス中の材料の劣化や異物混入を防ぐために特別に設計された高純度処理システムです。厳格な純度要件を持つ産業で広く利用されています。例えば、電子材料、医薬品、化粧品、食品加工、先端セラミックス実験室グレードのモデルは、プログラム可能なロジックコントローラー(PLC)をサポートしており、非常に再現性の高いバッチ処理が可能です。「不活性材料」と高度な「シーリング構造」で作られた粉砕部品を使用することで、金属イオンやその他の不純物が導入されないことを保証します。これにより、最終製品の化学的安定性と品質の一貫性が保証されます。2.応用産業 / シナリオ



典型的な用途


一般的な処理材料 医薬品・化粧品 有効成分の微粉砕、クリーム基材の均質化。
医薬品結晶、二酸化チタン(TiO2)、タルクパウダー、マイカパウダー。 エレクトロニクス・新エネルギー リチウム電池材料、コンデンサ用セラミック粉末の調製。
リチウム鉄リン酸塩(LiFePO4)、ジルコニア(ZrO2)、チタン酸バリウム(BaTiO3)。 食品・栄養補助食品 機能性食品の微粉砕、風味やスパイスの精製。
プロテインパウダー、茶ポリフェノール、クルクミン。 研究開発・実験室 材料合成、ナノ材料の調製。
グラフェン、金属有機構造体(MOFs)。 3.動作原理 アルミナグラインダー汚染フリーボールミル高純度粉砕装置の基本的な動作原理は、電動モーターが粉砕チャンバーの回転を駆動することです。チャンバー内では、粉砕メディア(セラミックボールなど)と原料が、回転中の遠心力と摩擦によって一定の高さまで投げ上げられます。その後、重力によって落下またはカスケードします。このプロセス中に、材料は粉砕メディアからの繰り返し衝撃、衝突、転がり摩擦を受け、徐々に所望の粒子サイズにまで減少します。粉砕された材料は最終的に排出機構から排出されます。連続ボールミルでは、シリンダー内で材料が連続的に前進し、同時に供給と排出が可能になります。




4.利点


4.1 不活性な粉砕メディアとライニング



セラミックボール、ジルコニア(

ZrO2

)ビーズ、ポリウレタンライナーなどの非金属材料を使用します。この構成により、鋼鉄製粉砕メディアによって一般的に導入される鉄(Fe)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)などの金属汚染が排除されます。対象用途:高純度アルミナ、リチウムイオン電池カソード材料、化粧品粉末、その他の敏感な物質に特化して設計されています。

  • 4.2 密閉された操作システム外部からの粉塵の侵入や材料の漏洩を防ぐ気密設計を備えており、滅菌環境やクリーンルーム環境に適しています。

雰囲気制御:

不活性ガス(窒素またはアルゴン雰囲気など)による粉砕をサポートし、反応性材料の酸化や劣化を防ぎます。

  • 4.3 柔軟な粉砕モード(乾式・湿式)湿式粉砕:

溶媒を使用して粒子を分散させ、均一性を向上させます。高品質コーティングやスラリーの調製に標準的です。

  • 乾式粉砕:特定の医薬品添加剤や機能性セラミック粉末など、湿気に敏感な材料に最適です。

  • 4.4 高精度制御機能可変周波数ドライブ(VFD)システムを搭載しており、回転速度を精密に調整して粉砕強度と「

粒子径分布(PSD)

」を制御できます。自動化:実験室グレードのモデルは、プログラム可能なロジックコントローラー(PLC)をサポートしており、非常に再現性の高いバッチ処理が可能です。

  • 5.技術仕様モデル


シリンダー回転数(r/min)

ボール負荷(t) 供給サイズ(mm) 排出サイズ(mm) 容量(t/h) モーターモデル 出力(kW) 重量(t) MQG600*1800 45.5
0.5 ≤ 10 0.074-0.5 0.2-0.5 Y160M-6 7.5 2.5 32 38
1.8 ≤ 20 0.074-0.6 0.8-3 - 15 5.8 0.074-0.4 0.074-0.6
2.7 ≤ 20 0.074-0.3 0.8-3 Y200L2-6 22 7.5 0.074-0.6 32
4.8 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 30 9.8 ≤ 25 30
5.2 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 45 13.2 MQG1500*3500 36
5.8 0.074-0.6 0.074-0.6 80-300 - 45 14.8 MQG1500*3500 28.8
8.3 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 90 17.6 MQG1500*4500 28.8
10 ≤ 25 0.074-0.4 80-300 YR1000-8/1180 95 22.3 MQG1500*5700 28.8
12 ≤ 25 0.074-0.4 80-300 YR1000-8/1180 130 26.7 MQG1500*6400 28.8
13 ≤ 25 0.074-0.4 80-300 YR1000-8/1180 130 31.4 MQG1830*5400 24.5
12 ≤ 25 0.074-0.4 80-300 YR1000-8/1180 130 31.4 MQG1830*5400 24.5
15 ≤ 25 0.074-0.4 80-300 YR1000-8/1180 210 36.5 MQG2100*4500 24.5
19 ≤ 25 ≤ 25 80-300 YR1000-8/1180 210 36.5 MQG2100*4500 24.5
20 ≤ 25 0.074-0.4 80-300 YR1000-8/1180 245 63.8 MQG2200*4500 24.1
21 ≤ 25 ≤ 25 80-300 - 210 43.2 MQG2100*4500 24.57
26 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 280 63.8 MQG2400*7000 21.8
22 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 245 63.8 MQG2200*4500 21.4
27 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 280 63.8 MQG2400*7000 21.8
35 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 280 86.8 MQG2700*4500 21.4
36 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 475 91.8 MQG3000*5400 21.26
26 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 280 63.8 MQG2400*7000 21.8
36 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 475 91.8 MQG3000*5400 21.8
42 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 560 85.7 MQG2400*10000 21
65 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 710 88.6 MQG2600*8000 19.6
52 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 630 97.8 MQG3200*4500 21.4
39 ≤ 25 0.074-0.4 80-300 YR1000-8/1180 380 86.8 MQG2700*4500 21.4
43 ≤ 25 0.074-0.4 80-300 YR1000-8/1180 475 91.8 MQG3000*5400 19
58 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 269.6 119.7 MQG3200*4500 18.3
78 ≤ 25 0.074-0.4 80-300 YR1000-8/1180 800 152.4 MQG3200*9000 18
100 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 1120 166.7 MQG3200*3600 18.6
56.5 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 630 158.7 MQG3200*4500 18.6
65 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 800 158.7 MQG3200*5400 18
72 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 1250 146.7 MQG3200*9000 18
85 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 1250 158.7 MQG3600*6000 18
86 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 1250 158.7 MQG3600*6000 18
117 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 14000 269.6 MQG4000*6000 16.9
145 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 1800 269.6 MQG4500*6000 15.6
180 ≤ 25 0.074-0.6 80-300 - 2300 269.6 6.当社のソリューション


アルミナ釉薬汚染のないボールミル高純度粉砕装置 0


アルミナ釉薬汚染のないボールミル高純度粉砕装置 1